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濟(jì)寧市東恒工礦物資有限公司企業(yè)會(huì)員第2年
聯(lián)系電話(huà):13173181052
所在區(qū)域:
經(jīng)營(yíng)范圍:集成電路/IC
企業(yè)信息未認(rèn)證
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品牌 | 湖北沙鷗 | 型號(hào) | KTL113-L |
制作工藝 | 集成 | 輸出信號(hào) | 開(kāi)關(guān)型 |
材料物理性質(zhì) | 導(dǎo)體 | 材料晶體結(jié)構(gòu) | 單晶 |
加工定制 | 是 | 精確度 | 20 |
靈敏度 | 50 | 重復(fù)性 | 40 |
額定電壓 | 220V | 密封性 | 6 |
線(xiàn)性度 | 10 | 遲滯 | 50 |
漂移 | 40 | 產(chǎn)地 | 湖北 |
數(shù)量 | 15 | 封裝 | 10 |
廠(chǎng)家 | 湖北沙鷗通信股份有限公司 |
KTL110-L1礦用本安型多功能中繼器的工藝一般包括:表面工藝、體硅工藝、Liga工藝和SOI+drie工藝。對(duì)這些過(guò)程進(jìn)行了比較。表面技術(shù)是在集成電路平面技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種微技術(shù),它只進(jìn)行單面光刻。它利用不同材料在硅平面上的順序沉積和選擇性腐蝕來(lái)形成各種微結(jié)構(gòu)。主要包括犧牲層沉積、犧牲層刻蝕、結(jié)構(gòu)層沉積、結(jié)構(gòu)層刻蝕、犧牲層去除(釋放結(jié)構(gòu))等。將結(jié)構(gòu)材料懸浮在基板上,形成各種形狀的二維或三維結(jié)構(gòu)。
KTL110-L1礦用本安型多功能中繼器是指沿硅襯底厚度方向刻蝕硅襯底的工藝,包括濕法刻蝕和干法刻蝕。它是實(shí)現(xiàn)三維結(jié)構(gòu)的一種重要方法。為了形成完整的微結(jié)構(gòu),通常在加工的基礎(chǔ)上采用鍵合或鍵合技術(shù),將硅鍵合技術(shù)與體硅加工方法相結(jié)合。硅的微結(jié)構(gòu)是通過(guò)多重掩模、單面或雙面光刻和各向異性蝕刻形成的,然后將相關(guān)零件確對(duì)齊并粘合成一個(gè)整體。體硅加工工藝比硅表面加工工藝復(fù)雜,體積大,成本高。
KTL110-L1礦用本安型多功能中繼器當(dāng)弦的張力不同時(shí),聲音的頻率也不同。諧振式加速度計(jì)的原理是相同的。振動(dòng)梁一端固定,另一端與質(zhì)量塊連接。當(dāng)振動(dòng)梁的軸方向有加速度時(shí),梁將受到軸方向的力,梁中的張力將發(fā)生變化,其固有頻率也將隨之變化。如果對(duì)梁施加一定的激勵(lì)并檢測(cè)其響應(yīng),則可測(cè)量其固有頻率和加速度。激勵(lì)的應(yīng)用和響應(yīng)的檢測(cè)通常通過(guò)梳齒機(jī)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)。
湖北沙鷗通信股份有限公司研究開(kāi)發(fā)的主要任務(wù)(產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)研究與攻關(guān);新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)與技術(shù)成果轉(zhuǎn)化等),針對(duì)企業(yè)發(fā)展中的重大技術(shù)問(wèn)題,在自主研究的基礎(chǔ)上,持續(xù)不斷地將科研成果進(jìn)行工程化研究開(kāi)發(fā),不斷推出具有高增值、高效益的新產(chǎn)品;參與引進(jìn)技術(shù)的消化、吸收與創(chuàng)新,為企業(yè)吸收國(guó)外優(yōu)異技術(shù),提高產(chǎn)品質(zhì)量水平提供技術(shù)依托;培養(yǎng)、聚集高層次、高質(zhì)量的工程技術(shù)人才和管理人才,為企業(yè)技術(shù)人員知識(shí)更新提供良好的培訓(xùn).
湖北沙鷗KTL113-L礦用本安型中繼器KTL110-L多功能對(duì)講通訊設(shè)備L1 Y